说到底，这是一个无比巨大的产业链！
“差距真的好大啊...”了解的越多，林奇才越知道这一块与国外的差距是多么的庞大。
曾经林奇对芯片上的差距很模糊，反正大家都说差很多，林奇自然就只知道字面上的差很多。
而随着这波了解下来，他终于是有了一个大致的概念。
首先是在设计上的差距。
设计其实还好，华为海思和紫光展锐这两个分列国内前两名的公司，在不少设计领域其实已经是世界领先水平。
但有一个巨大的问题....
其架构授权的核心都被外人给掌握！
目前，国内仅有中科院的龙芯和参谋部的申威拥有自主架构，前者用于北斗导航，后者用于神威超级计算机，民用领域上则是基本空白。
所以这方面的差距很明显。
其次，设备和材料也是一大短板。
制造芯片的三大设备光刻机、蚀刻机和薄膜沉积，国内仅中微半导体的介质蚀刻机能跟上行业节奏，其7纳米设备已入围台积电名单。
此外，北方华创在氧化炉和薄膜沉积设备上成绩不俗，但基本还处于28纳米级别。其他设备，如离子注入机、抛光机和清洗机，也差不多。
差距最大的是光刻机。
光刻机用于将设计好的电路图曝光在硅片上，蚀刻机则负责微观雕刻，刻出沟槽或接触孔。
目前ASML最先进的EUV光刻机，即将投入三星、台积电的7纳米工艺，而国内江城微电子的光刻机，仍停留在90纳米量产的水平，不过目前江城微电子已经成功研制22nm光刻机，22nm量产的问题也只是时间问题了。
从90nm到22nm，再到14nm，这无疑是一个巨大的突破，虽然和现在最顶尖的5nm还有不小的差距，但至少让人看到了希望，在不断的追赶。
而在芯片制造的材料方面，小日子国是全球领先者。
在制造芯片的19种主要材料中，小日子国有14种位居全球第一，总份额超过60%。全球近七成的硅晶圆产自它，那是芯片制造的根基。
反观我国，硅晶圆几乎是空白，8英寸国产率不足10%，12英寸依赖进口。
除了硅晶圆，国内企业还在溅射靶材、研磨液等材料上有所突破，并实现了国产化。前者用于制作金属导线，后者用于芯片研磨抛光。
以上均为单点突破，距离整个行业的崛起还比较远。
芯片制造，国内最先进的是中芯国际和夏门联芯，目前能做到28纳米量产。而它们的竞争对手，三星、台积电等巨头即将在今年量产7纳米，相差两三代。
以上是涉及和制造上的差距，最后是封测。
封测这是目前大陆最接近国际水平的领域，长电科技收购新加坡星科金朋后，跻身全球第三。但全球封测中心在湾省。
而除了设计、制造、封测等等之外，还有整个大环境的影响、不友好的产业环境等等，都是很大的问题。
综合看下来，在这个庞大的产业里，华夏还有很长的一段路要走，得要做的事情还有很多很多。
林奇大体上对芯片，乃至半导体这一块有了个大致的了解后，他心里面也明白了自己需要发力的地方在哪。
“第一，是芯片设计的架构方面。”
在芯片设计环节，主要涉及到了EDA软件和IP核。
EDA软件就是设计芯片的软件工具，是整个芯片行业里面最上游的一个产业。
如果没有这个工具，那芯片的设计工作就将无法完成，自然也就不会再有后续的制造、封测等环节。
所以EDA被称为‘芯片之母’。
想想都很好理解，先进一点的芯片，要在指甲盖大小的空间里，要集成几十上百亿晶体管，几十层电路，没有EDA那就肯定是很难设计出来的。
即便是不用EDA也能设计，但成本也是无法承受的。
有教授就测算过，5nm的芯片，没有EDA，设计成本77亿美元，有了EDA，设计成本只要4000万美元，相差约200倍。
由此可想而知，EDA软件的重要性。
而这也是真正被漂亮国卡住命门的地方。
因为目前市场上最大的、最先进的EDA软件提供产商，都是出自漂亮国。
高端EDA工具，目前由entor三家漂亮国公司垄断。
而在华夏市场，这三家EDA软件公司更是占据了95%的市场份额。
当年516之后，漂亮国这三大EDA厂商与华为的合作已经先后终止，直接在顶层设计环节卡死。
这意味着，华为自那以后再没有获得新工具和新升级服务，但是可以继续使用华为已经购买和获得授权的EDA工具。也就是说，目前华为海思还可以采用老版本EDA做IC设计。
别以为能用老版本也相当不错...要知道的是，EDA一月更新一次，更新换代相当快捷，且内容变化不小。
随着时间的推移，时间越长，老版本的软件就越落后，长此以往下去，问题会越积越多。
可想而知，这件事对于华为的影响十分的巨大。
也能从中看出EDA软件的重要性。
而除了EDA之外，另外一个核心部分是IP核。
IP核全称为Iual property，中文为知识产权，具体来讲就是科技公司做好的模块，芯片设计厂商可以拿过来直接应用到芯片中。
这章没有结束^.^，请点击下一页继续阅读！
喜欢我给从前写了亿封信请大家收藏：(m.1ddu.com)我给从前写了亿封信一点读书更新速度全网最快。